陽極氧化的原理這就不做過多的介紹了，下面為大家說一下陽極氧化膜的結構和性能，感興趣的話一起來了解一下這方面知識吧！

　　陽極氧化膜由兩層組成，多孔的厚外層生長在具有介電性能的致密內層上，稱為阻擋層(也稱活性層)。

　　電子顯微鏡觀察表明，薄膜的幾乎所有垂直和水平表面都呈現出垂直于金屬表面的管狀孔洞，這些孔洞穿過薄膜外層，到達氧化膜與金屬界面處的阻擋層。以每個孔周圍致密氧化鋁為主軸的蜂窩狀六角體稱為晶胞，整個薄膜由無數個這樣的晶胞組成。

　　阻擋層由無水氧化鋁組成，薄而致密，硬度高，具有阻止電流通過的功能。阻擋層的厚度約為0.03-0.05m，占薄膜總厚度的0.5%-2.0%。

　　氧化膜的多孔外層主要由無定形氧化鋁和少量水合氧化鋁組成，還含有電解質的陽離子。電解液為硫酸時，正常情況下膜中硫酸鹽含量為13%-17%。氧化膜的絕大部分優異性能是由多孔外層的厚度和孔隙率決定的，而多孔外層的厚度和孔隙率又與陽極氧化條件密切相關。